ОАО ИНТЕГРАЛ


Дизайн-центр ОАО "ИНТЕГРАЛ":Разработка технологий:Текущие технологические НИР

Текущие технологические НИР


НИР«Дюйм Н» Исследование надёжности элементной базы КМОП ИМС с проектными нормами 0,5; 0,35 мкм.
ОКР«Дефект 11» Разработка методик оперативного контроля надежности интегральных микросхем специального назначения в процессе производства с помощью тестовых структур.
ОКР«Перепроектирование ПЛИС» Разработка программных средств для перевода проектов, реализованных на ПЛИС фирмы Xilinx, в заказные СБИС.
ОКР «Дюйм-PDK» Разработать средства проектирования (PDK - Process Design Kit) для 0,35 мкм КМОП процесса с высоковольтными опциями.
ОКР «Дюйм-PDK CВВФ» Разработать средства проектирования (PDK - Process Design Kit) для 0,35 мкм КМОП процесса устойчивого к СВВФ.
ОКР «Дюйм-STI» Разработать технологический процесс межкомпонентной изоляции канавочного типа для изделий специального назначения с проектной нормой 0,35 мкм.
НИР «Дюйм-ПЗС» Разработать конструкцию и технологию формирования элементной базы фоточувствительных ПЗС матриц для космических систем наблюдения.
ОКР «Дюйм ЛФД» Разработать базовые конструкции, методы формирования и тестирования кремниевых лавинных фотодиодов для ближней ИК области спектра.
ОКР «Дюйм-НП» Разработать средства проектирования (PDK - Process Design Kit) для низкопорогового 0,5 мкм, КМОП технологического процесса с напряжением питания 1 - 5 В.
ОКР «Дюйм-Р» Разработать элементную базу и библиотеку проектирования радиационностойких биполярных аналоговых ИМС.

Консультации

Отдел перспективного маркетинга:
Тел.                       + 375 17 398 1054
Email: markov@bms.by
ICQ: 623636020
Бюро рекламы научно-технического отдела
Тел.                       + 375 17 212 3230
Факс:                     + 375 17 398 2181


Home Map

Back

Contact

Engl Russ

© Reseach & Design Center 2014